美國遏制中國半導體產(chǎn)業(yè)崛起的行為正愈發(fā)波及韓國半導體企業(yè)。韓國《每日經(jīng)濟》18日的報道稱，有分析認為，在中國設有生產(chǎn)基地的三星電子和SK海力士，有可能面臨無法升級工藝升級關鍵設備的風險。

報道稱，SK海力士位于江蘇省無錫市的芯片工廠改造計劃或因美方的反對而落空。SK海力士計劃在無錫半導體工廠引入荷蘭阿斯麥爾(ASML)的極紫外線(EUV)光刻機，來提高工藝技術的穩(wěn)定性。但這一計劃恐遭到美方反對，理由是“擔心中國或將此項技術運用于提高軍事能力，從而對美國產(chǎn)生安全威脅”。當被問及是否允許SK海力士向中國工廠引進EUV設備時，一名白宮高級官員表示拒絕置評，但他重申拜登政府堅持防止中方利用美國及其盟國技術開發(fā)尖端半導體這一方針不會改變。

ASML生產(chǎn)的EUV光刻機是半導體微加工必不可少的尖端裝備，SK海力士今年2月與ASML簽訂了到2025年進口約20臺EUV設備的合同。SK海力士在韓國和中國都有DRAM半導體工廠。韓媒稱，如果光刻機無法運抵中國，中國工廠的工藝升級可能會延遲。有分析認為，如果美國的對華半導體設備整體制裁收緊，那么三星電子在華工廠升級工藝同樣也將遇到困難。韓國漢陽大學教授樸宰根表示，實際上美國政府已經(jīng)宣布不允許高精度光刻機進入中國，“美國政府不僅要求包括三星電子和SK海力士提交企業(yè)商業(yè)秘密，現(xiàn)在還阻止韓國企業(yè)升級在華設備，這做得太過分了。”(本報駐韓國特約記者張靜)